光刻機多久可以上國際主流

『壹』 中國有可能研發出成熟的光刻機嗎如果能，要多久

中國目前已經有了成熟的光刻機產品，只是說在技術水平上和光刻機的領頭羊ASML差距比較大而已。

目前國內的研發環境並不算好毫無疑問光刻機算的上目前科技界最頂尖的技術之一，這種技術要完成趕超需要不斷的和其他國家交流合作，從他們的產品中吸取經驗和教訓，進而才能在有限的時間內完成趕超。但是現在是什麼情況呢？國外的企業在光刻機領域紛紛拒絕合作，我們只能選擇閉門造車。只要美國不放鬆對國內光刻機企業的圍追堵截，那麼我們只能投入巨額的資金和技術慢慢追趕。不過ASML公司的產品已經和國內產品差距太大，短時間內沒有任何追趕上的可能性。如果我們想要繞過現有的光刻機技術走出一條自研道路，那麼需要的時間可能更久。從目前的形勢上看，我們的光刻機如果想追上現在國際一流水準的話最起碼都要十年以上，想要完成趕超更是天方夜談。不過現在壓力大也是好事，在強壓的下的中國企業肯定會更有拼勁，說不定未來會創造奇跡呢？

『貳』 荷蘭解除禁令，向中國出口光刻機，他們是怎麼想的呢

據新聞報道，荷蘭政府已經解除禁令，允許向中國出口光刻機。此前因為光刻機技術屬於高科技，歐盟禁止向中國出口該技術，但轉眼之間，荷蘭就已改變主意，同意向中國出口該項技術，那麼對於荷蘭來說，他們又是怎麼想的呢？

一. 敢於做第一個吃螃蟹的人。

俗話說「錦上添花易，雪中送碳難」。面對歐美發達國家對高新技術的出口禁令，此時荷蘭卻能夠頂住國際壓力，允許向中國出口光刻機技術，這必定會引起中國對荷蘭的感激。中國一直以來的傳統文化就是以禮相待，滴水之恩，當湧泉相報，此時荷蘭解除禁令，對於中國來說，意義非凡。而對於荷蘭政府來說，敢於做第一個吃螃蟹的人，可能也使得歐盟內部出現分化，使得原來一部分內心不夠堅定的國家後悔不已的同時，也能獲得豐厚的回報，何樂而不為呢？

所以此次荷蘭政府解除禁令的決定，打破了歐盟等發達國家在高新技術上對中國出口的禁令，在當前的國際形勢下，意義重大，可以說是實現了零的突破。有了第一次的突破，我們可以想像一下，以後的各項高新技術也會源源不斷地向中國輸出，這對於中國的高新技術的發展將會帶來不可估量的助力。

『叄』 如果中國舉全國力量研發晶元和研製光刻機需要多長時間

感謝邀請

首先、可以肯定的是目前我國在晶元設計上並與全球頂尖水平差距並不是很大，差距主要在製造環節。

目前我國有很多晶元設計企業，有部分企業晶元設計能力已處於世界先進的地位，比如華為海思所設計的手機晶元已經達到世界第一梯隊的位置。

目前真正制約我國晶元發展的主要是在製造環節，因為把晶元設計出來之後要轉化為實實在在的晶元，需要通過晶圓廠家把它製造出來。

但是目前我國最先進的晶圓廠家是中芯國際，它能夠製造的晶元也只不過是14納米，這個跟國際目前已經量產的5納米仍然有很大的差距。

而制約我國晶元發展的有一個核心零部件就是光刻機。目前由上海微電子自主研發的28納米光刻機已經取得了技術上的突破，預計2021年將正式投產，但這跟ASML仍然有很大的差距。

所以綜合各種因素之後，我認為至少在未來10年之內，我國在晶元製造和高端光刻機上跟國際頂尖水平仍然會有一定的差距，這種差距即便舉國之力去研發，短期之內也是不可能完成縮小的。

『肆』 光刻機售後服務工作多久可以上手

3-5天。
如果不是技術性的客服，一般培訓3-5天即可上崗，當然成為優秀的售後客服，還需要長時間都是經驗積累。
光刻機（lithography）又名：掩模對准曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶元的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。
生產集成電路的簡要步驟：
利用模版去除晶圓表面的保護膜。
將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護膜的部分被腐蝕掉後形成電路。
用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質。
其中曝光機就是利用紫外線通過模版去除晶圓表面的保護膜的設備。
一片晶圓可以製作數十個集成電路，根據模版曝光機分為兩種：
模版和晶圓大小一樣，模版不動。
模版和集成電路大小一樣，模版隨曝光機聚焦部分移動。
其中模版隨曝光機移動的方式，模版相對曝光機中心位置不變，始終利用聚焦鏡頭中心部分能得到更高的精度。成為的主流。

『伍』 中國光刻機

中國光刻機歷程

1964年中國科學院研製出65型接觸式光刻機；1970年代，中國科學院開始研製計算機輔助光刻掩膜工藝；清華大學研製第四代分部式投影光刻機，並在1980年獲得成功，光刻精度達到3微米，接近國際主流水平。而那時，光刻機巨頭ASML還沒誕生。

然而，中國在1980年代放棄電子工業，導致20年技術積累全部付諸東流。1994年武漢無線電元件三廠破產改制，賣副食品去了。

1965年中國科學院研製出65型接觸式光刻機。

1970年代，中國科學院開始研製計算機輔助光刻掩模工藝。

1972年，武漢無線電元件三廠編寫《光刻掩模版的製造》。

1977年，我國最早的光刻機GK-3型半自動光刻機誕生，這是一台接觸式光刻機。

1978年，1445所在GK-3的基礎上開發了GK-4，但還是沒有擺脫接觸式光刻機。

1980年，清華大學研製第四代分步式投影光刻機獲得成功，光刻精度達到3微米，接近國際主流水平。

1981年，中國科學院半導體所研製成功JK-1型半自動接近式光刻機。

1982年，科學院109廠的KHA-75-1光刻機，這些光刻機在當時的水平均不低，最保守估計跟當時最先進的canon相比最多也就不到4年。

1985年，機電部45所研製出了分步光刻機樣機，通過電子部技術鑒定，認為達到美國4800DSW的水平。這應當是中國第一台分步投影式光刻機，中國在分步光刻機上與國外的差距不超過7年。

但是很可惜，光刻機研發至此為止，中國開始大規模引進外資，有了＂造不如買」科技無國界的思想。光刻技術和產業化，停滯不前。放棄電子工業的自主攻關，諸如光刻機等科技計劃被迫取消。

九十年代以來，光刻光源已被卡在193納米無法進步長達20年，這個技術非常關鍵，這直接導致ASML如此強勢的關鍵。直到二十一世紀，中國才剛剛開始啟動193納米ArF光刻機項目，足足落後ASML20多年。

『陸』 中國的光刻機是什麼水平與世界先進還有多大差距如何追趕

中國光刻機距離世界先進水平，還有較大的差距。

第一，目前全球最先進的光刻機，已經實現5nm的目標。這是荷蘭ASML實現的。

而ASML也不是自己一家就能夠完成，而是國際合作才能實現的。其中，製造光源的設備來自美國公司；鏡片，則是來源於德國的蔡司公司等。這也是全球技術的綜合作用。

有關報道中的「全新的技術」，也就是中國科研工作者在關鍵部件完全國產化情況下，實現的這一次技術突破

中國和世界頂尖光刻機製造還有很大差距。

華為麒麟受制於人，中芯國際不堪大用，澎湃晶元久不見進展，虎憤晶元勉強能用。

實用更是有很遠的路要走。

大家放平心態。

『柒』 我國的光刻機5納米生產技術要多久才能突破

月初一條「中科院5nm激光光刻技術突破」的新聞火了，在很多無良自媒體的口中這則新聞完全變了味，給人的感覺像是中國不久將會擁有自己的5nm光刻機，其實真實情況完全不是一回事。下面我們就來談談這則新聞真實的內容到底是什麼，以及中國光刻機5nm生產技術還要多久才能取得突破。

中國和荷蘭ASML的差距最起碼也在十年以上現在國內最好的光刻機生產企業應該是上海微電子，目前生產的最好光刻機也只是90nm的製程。盡管有傳言說上海微電子明年將會推出28nm的全新光刻機，但是和ASML的EUV光刻機精度依舊相差甚遠。中國想要生產5nm的光刻機有一個最大的難點，就是自主研發。這不光意味著我們需要跨越從28nm到5nm這個巨大的障礙，並且在突破的過程中最好不要使用其他國家的專利，只能發展出一條屬於自己的光刻機道路。需要達成這么多的條件，研發的難度可想而知。總的來說短時間內我國的光刻機技術取得重大突破的概率為0，還是要被人牽著鼻子走。落後就要被挨打卡脖子在任何時候都是真理，只希望我們國家的科研人員能夠迎頭趕上，盡快取得突破吧。

『捌』 中國光刻機明年可以達到世界先進的水平，開始邁入晶元強國

答案是很明顯的，即使中國光刻機明年可以達到世界先進的水平，但想要邁入晶元強國，仍有一段很遙遠的距離。大家都知道，然後成為晶元強國依賴於晶元光刻機我知道水準，然而雖然在2019年，中芯國際實現了第一代14納米FinFET工藝量產，但是中芯國際擁有的最先進14nmFinFET工藝，仍然不是完全自主的一項技術。而真正能夠代表國產光刻機技術水準的依然是上海微電子，但是目前它的技術仍然停留在90nm工藝的水準，在全球晶元製造技術上仍然是處於最低的水準。

總而言之，中國想要成為晶元強國，首先就要國內的晶元光刻機設備能夠跟得上世界的水平，而仍然依賴進口高端光刻機的中國，想要邁入晶元強國仍然需要時間和努力。

『玖』 中國目前光刻機處於怎樣的水平為什麼短時間內造不出來

中國光刻機生產落後，關鍵還是能夠買進更先進的機器。如果西方國家實施制裁，禁止中國從西方進口，用不了幾年，光刻機的生產就是趕不上他們，也不會與他們有大差距。成立中國企業基金會，中國銀行聯盟基金會，給中國的各類裝備研發生產企業以年百億級別的資金支持，派出國家院士團隊全力支持研發，不愁一年兩年搞不出來。

光刻機是一台機器，你可以不斷分解這台機器，一直到各獨立原件，尤其那些關鍵是幾個部件，你會發現，做這個部件，要列出一大堆工藝設備技術，如同一棵樹散出無數枝條和樹葉，葉脈你就不要糾結了，就完善這些樹枝和樹葉就能把一萬人累死！

有人說的好：“錢不是萬能的，但沒有錢是萬萬不能的”，但是還有人說的一句話更有道理：“有錢能解決的問題都不是問題”，而晶元等領域恰恰是光有錢也不一定能解決問題的，否則為什麼我們要花那麼多錢錢去買，為什麼華為寧可被罰了那麼多錢也要美國的晶元，不會把這些錢投入自己造啊，關鍵是有錢也造不出啊！有些領域一不能逆向模仿，二不能彎道超車，三不是喊“口號”喊出來的，抓緊追趕才是正道。

中國只要不計成本，搞出高端光刻機是早晚的事，如果高端晶元也搞出來，自己的光刻機給自己的晶元廠商用，不用再進囗，國外晶元廠商賣不動晶元，自然不再買光刻機，逼迫荷蘭光刻機廠商大虧損，甚至垮台，中國在世界就是真正的巨人了。賺錢就是自然的了。這事全世界只有中國能做。